沿革と歴史

沿革


信越化学工業は、 「信濃の水」と「越後の石灰石」の 出会いから始まりました。

長野県の豊かな水力が生み出す電力。 新潟県・親不知の大地から採れる石灰石。 この二つの自然の恵みから、化学肥料・石灰窒素を生産する 「信越窒素肥料株式会社」が大正15年(1926年)9月に発足。 私たち信越化学工業株式会社の歴史はそこからスタートしました。


信越化学グループのめざす将来像を視覚的にシンボライズしたコーポレート・シンボルです。
全体のイメージは、「ハイテクノロジー」「ハイクオリティ」「ダイナミック」「チャレンジ精神」「柔軟性」 を表現したものです。

中央にある”光”が表すものは、「地球の可能性」と「人間の夢」を媒介する「活性の原子」であり、未来への広がりや新しい価値を創造する先端技術でもあります。

世界のリーディング・カンパニーをめざす信越化学グループが、永遠に光り輝くことを願って、
【メモラブル・グロー】と名付けました。

組織の歴史


  • 国内の組織、拠点の動き
  • 海外の組織、拠点の動き
  • 製品、研究開発の動き
  • 1926

    • 「信越窒素肥料株式会社」として発⾜
  • 1927

    • 直江津⼯場完成
    • 直江津⼯場でカーバイド、⽯灰窒素の製造開始
  • 1938

  • 1940

    • 社名を「信越化学⼯業株式会社」に改称
  • 1945

  • 1949

    • 東京証券取引所に株式を上場
  • 1953

    • シリコーンの⼯業⽣産開始
    • デミング賞実施賞を受賞場
  • 1955

    • 「⽇信化学⼯業(株)」を設⽴
  • 1956

    • 塩化ビニル樹脂の製造開始
  • 1957

    • か性ソーダ、塩素の製造開始
  • 1959

    • クロロメタンの製造開始
  • 1960

    • 「信越ポリマー(株)」を設⽴
    • ポルトガルに「シレス社」を設⽴
    • ⾼純度シリコンの製造開始
    • シリコーンRTVゴムを開発
  • 1962

    • 「信越共同建設(株)」(現・信越アステック(株))を設⽴
    • セルロース誘導体の製造開始
  • 1963

    • 左官⽤メトローズを開発
  • 1964

    • 「⻑野電⼦⼯業(株)」を設⽴
  • 1965

    • 胃溶性コーティング剤(TC-5)を開発
  • 1966

    • シランカップリング剤を開発
  • 1967

    • 「信越⾦属⼯業(株)」を設⽴
    • イットリウムなど⾼純度レア・アースの製造開始
  • 1968

    • 「⿅島塩ビモノマー(株)」、「⿅島電解(株)」を設⽴
    • 「信越酢酸ビニル(株)」を設⽴
  • 1969

    • 「直江津電⼦⼯業(株)」を設⽴
  • 1970

  • 1971

    • 本社を東京千代⽥区⼤⼿町の朝⽇東海ビル(現朝⽇⽣命⼤⼿町ビル)へ移転
  • 1972

    • 「信越⽯英(株)」を設⽴
    • レア・アースマグネットを開発
    • HPMCPの製造開始
  • 1973

    • 「シンテック社」を設⽴(⽶)
    • 信越半導体「S.E.H.マレーシア社」を設⽴
    • エポキシ・モールディングコンパウンドを開発
  • 1974

    • シンテック フリーポート⼯場が操業開始
  • 1976

  • 1977

  • 1979

    • 信越半導体「シンエツハンドウタイ・アメリカ社」を設⽴
    • ICマスク⽤合成⽯英基板の製造開始
  • 1980

    • 合成性フェロモンを開発
  • 1981

    • 窒化ケイ素を開発
    • 鋳鉄⽤ワイヤー接種剤の開発
  • 1982

    • ジクロシランの⽣産を開始
  • 1984

    • 信越半導体、⽩河⼯場完成
    • 信越半導体「シンエツハンドウタイ・ヨーロッパ社(U.K.)」を設⽴
    • リチウム・タンタレート(LT)を開発
  • 1985

    • 「K-Bin社」を設⽴
    • 「シンエツシリコーンズ・オブ・アメリカ社」を設⽴
    • 超⾼純度窒化ホウ素(PBN)の成形品を開発
  • 1986

    • 「韓国シンエツシリコーン社」を設⽴
  • 1987

    • 「崇信シリコーン社」(現・台湾シンエツシリコーン社)を設⽴
  • 1988

  • 1989

    • 「マイクロサイ社」を設⽴(米)
    • 「シンエツシリコーンズ・ヨーロッパ社」を設⽴(蘭)
  • 1990

    • 「シンエツインターナショナル・ヨーロッパ社」を設⽴(蘭)
    • 「シンエツ・シンガポール社」を設⽴
  • 1991

    • 超⼩型光アイソレータを開発
  • 1992

    • 松井⽥⼯場を設置し、同⼯場と磯部⼯場を総括する群⾺事業所を設置
  • 1993

    • 「シンエツ・マグネティクス社」を設⽴(⽶)
    • 信越半導体「S.E.H.シャーラム社」を設⽴(⾺)
    • 光ファイバー⽤プリフォーム本格製造開始
  • 1994

    • フォトマスク防塵⽤カバー、ペリクルを開発
  • 1995

    • 信越半導体「信越光電社」を設⽴(台)
    • 「シンエツ・エレクトロニクス・マレーシア社」を設⽴
    • 「シンエツ・エレクトロニクス・マテリアルズ・シンガポール社」を設⽴
    • 信越半導体「シンエツハンドウタイ台湾社」を設⽴
  • 1996

    • オーストラリアの「シムコアオペレーションズ社」を買収
  • 1998

    • フォトレジストの事業化
  • 1999

    • オランダの塩ビ事業を買収し、「シンエツPVC社」設⽴
    • 液状フッ素エラストマーを開発
  • 2000

    • シンテック アディス⼯場の第⼀期⼯事完成
    • 光通信⽤部品事業に参⼊
  • 2001

    • 新機能材料技術研究所を設⽴
    • 鹿島工場で光ファイバー⽤プリフォーム⼯場完成
    • シンテック アディス工場の第二期工事完成
    • 「アジア シリコーンズ モノマー社」設立(タイ)
    • 「シンエツ シリコーンズ タイランド社」設立
    • 300mmシリコンウエハーの商業生産開始
  • 2002

  • 2003

    • 「信越有机硅国際貿易(上海)有限公司」を設立
    • スイスのセルロース事業を買収し、「SE タイローズ社」設立(独)
  • 2005

  • 2006

  • 2007

    • RoHS規制対応光アイソレータを開発
    • 凸版印刷と最先端フォトマスクブランクスを共同開発
  • 2008

    • シンテック プラックミン第1工場の第一期工事完了
    • 世界最大級の永久磁石式磁気回路を開発
  • 2009

    • 高輝度LED用リフレクター材料、および波長変換フィルムを開発
  • 2010

    • シンテック プラックミン第1工場の第二期工事完了
  • 2011

    • シンテック プラックミン第2工場完成
    • 「シンエツ マグネティクス マテリアルズ ベトナム社」、「シンエツ エレクトロニクス マテリアルズ ベトナム社」を設立
  • 2012

    • 「信越(⻑汀)科技有限公司」を設⽴
  • 2013

    • 「アジア シリコーンズ モノマー社」を完全子会社化
    • 放射線遮蔽液状シリコーンゴム「ラディバリヤーシリーズ」を開発
  • 2015

    • 「⻑⾶信越(湖北)光棒有限公司」を設⽴
  • 2016

    • シリコーン電子材料技術研究所の新研究棟完成
  • 2018

    • シンテック プラックミンでの一貫工場の新設を発表
    • シリコーン事業でモノマーから最終製品までの生産能力増強を発表
  • 2019

    • シンテック エチレン工場が操業開始