ナノインプリント装置

(インプリント装置、インプリントリソグラフィー、NIL)

ナノインプリントは微小なパターンを形成するために、ナノサイズのパターンが形成されたモールドをレジストに転写することにより実現するプロセスです。
当社では、ウェハーからG5サイズの大型パネルまで、ナノインプリントを形成する装置を提供できます。これらの装置では、真空中でのインプリントを行うことにより、複雑なパターンでもボイドレスを実現します。
ナノインプリントの応用例としては 偏向などの光改質関連、微小回路パターンの形成、バイオ関連、ディスプレイ関連 など、多岐に亘った用途が提唱されています。これら以外にも、それぞれの用途に応じたソリューションを提案させて頂きます。

シリーズ名称

  • SENIシリーズ

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    信越エンジニアリング株式会社
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    システム機器事業部 システム機器部
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    systeminfo@see.jp