フォトレジスト

半導体などの回路パターンを、シリコンウエハー上に描画する工程で用いる、感光性の樹脂です。シリコンウエハーの表面に塗布したレジストに、回路パターンを描いたフォトマスクを通した光を照射反応させることにより、回路パターンを形成させます。当社のフォトレジストは、i線からKrF、ArF、EUV光源を用いた最先端のリソグラフィ技術に対応した製品です。また、微細加工プロセスで用いられるレジスト用塗布型の中間・下層膜材料もご提供しております。

シリーズ名称

  • SIPRシリーズ、SEPRシリーズ、SAILシリーズ、SEVRシリーズ、SHBシリーズ、ODLシリーズ

用途

  • 半導体製造工程
  • 磁気ヘッド製造工程
この製品へのお問い合わせ
  • 会社名:
    信越化学工業(株)
  • 部署名:
    新機能材料第一部
  • 電話番号:
    03-3246-5346