フォトレジスト

半導体などの回路パターンを、シリコンウエハー上に描画する工程で用いる、感光性の樹脂です。シリコンウエハーの表面に塗布したレジストに、回路パターンを描いたフォトマスクを通した光を照射し反応させることにより、回路パターンを形成させます。当社のフォトレジストは、i線からKrF、ArF、EUV光源を用いた最先端のリソグラフィ技術に対応した製品です。また、微細加工プロセスで用いられるレジスト用塗布型の中間・下層膜材料もご提供しております。