1960

• 「信越ポリマー（株）」を設⽴
• ポルトガルに「シレス社」を設⽴
• ⾼純度シリコンの製造開始
• シリコーンＲＴＶゴムを開発

1962

• 「信越協同建設（株）」（現・信越アステック（株））を設⽴
• セルロース誘導体の製造開始

1963

• 左官⽤メトローズを開発

1964

• 「⻑野電⼦⼯業（株）」を設⽴

1965

• 胃溶性コーティング剤（ＴＣ－５）を開発

1966

• シランカップリング剤を開発

1967

• 「信越⾦属⼯業（株）」を設⽴
• イットリウムなど⾼純度レア・アースの製造開始

1968

• 「⿅島塩ビモノマー（株）」、「⿅島電解（株）」を設⽴
• 「信越酢酸ビニル（株）」を設⽴

1969

• 「直江津電⼦⼯業（株）」を設⽴

1970

• ⿅島⼯場完成

1971

• 本社を東京千代⽥区⼤⼿町の朝⽇東海ビル（当時）へ移転

1972

• 「信越⽯英（株）」を設⽴
• レア・アースマグネットを開発
• ＨＰＭＣＰの製造開始

1973

• 「シンテック社」を設⽴（⽶）
• 信越半導体「Ｓ．Ｅ．Ｈ．マレーシア社」を設⽴
• エポキシ・モールディングコンパウンドを開発

1974

• シンテック フリーポート⼯場が操業開始

1976

• 「信越エンジニアリング（株）」を設⽴
• 塩ビ技術研究所（現塩ビ・⾼分⼦材料研究所）、シリコーン電⼦材料技術研究所を設置
• 合成⾹料アルファイロンを事業化

1977

• 合成技術研究所、磁性材料研究所を設置
• 合成⾹料⻘葉アルコールを開発
• Ｌ－ＨＰＣを事業化

1979

• 信越半導体「シンエツハンドウタイ・アメリカ社」を設⽴
• ＩＣマスク⽤合成⽯英基板の製造開始

1980

• 合成性フェロモンを開発

1981

• 窒化ケイ素を開発

1982

• ジクロロシランの生産を開始

1984

• 信越半導体、⽩河⼯場完成
• 信越半導体「シンエツハンドウタイ・ヨーロッパ社（Ｕ.Ｋ.）」を設⽴
• リチウム・タンタレート（ＬＴ）を開発

1985

• 「Ｋ－Ｂｉｎ社」を設⽴
• 「シンエツシリコーンズ・オブ・アメリカ社」を設⽴
• 超⾼純度窒化ホウ素（ＰＢＮ）の成形品を開発

1986

• 「韓国シンエツシリコーン社」を設⽴

1987

• 「崇信シリコーン社」（現・台湾シンエツシリコーン社）を設⽴

1988

• 精密機能材料研究所を設置
• 「シンエツ・マレーシア社」を設⽴

1989

• 「マイクロサイ社」を設⽴（米）
• 「シンエツシリコーンズ・ヨーロッパ社」を設⽴（蘭）

1990

• 「シンエツインターナショナル・ヨーロッパ社」を設⽴（蘭）
• 「シンエツ・シンガポール社」を設⽴

1992

• 松井⽥⼯場を設置し、同⼯場と磯部⼯場を総括する群⾺事業所を設置

1993

• 「シンエツ・マグネティクス社」を設⽴（⽶）
• 信越半導体「Ｓ．Ｅ．Ｈ．シャーラム社」を設⽴（⾺）
• 光ファイバー⽤プリフォーム本格製造開始

1994

• フォトマスク防塵⽤カバー、ペリクルを開発

1995

• 信越半導体「信越光電社」を設⽴（台）
• 「シンエツ・エレクトロニクス・マレーシア社」を設⽴
• 「シンエツ・エレクトロニクス・マテリアルズ・シンガポール社」を設⽴
• 信越半導体「シンエツハンドウタイ台湾社」を設⽴

1996

• オーストラリアの「シムコアオペレーションズ社」を買収

1998

• フォトレジストの事業化

1999

• オランダの塩ビ事業を買収し、「シンエツPVC社」設⽴
• 液状フッ素エラストマーを開発

2000

• シンテック アディス⼯場の第⼀期⼯事完成
• 光通信⽤部品事業に参⼊

2001

• 新機能材料技術研究所を設⽴
• 鹿島工場で光ファイバー⽤プリフォーム⼯場完成
• シンテック アディス工場の第二期工事完成
• 「アジア シリコーンズ モノマー社」設立（タイ）
• 「シンエツ シリコーンズ タイランド社」設立
• 300mmシリコンウエハーの商業生産開始

2002

• 「日本酢ビ・ポバール（株）」を設立
• 塩ビ技術研究所を塩ビ・高分子材料研究所と改称
• 「浙江信越精細化工有限公司」を設立

2003

• 「信越有机硅国際貿易（上海）有限公司」を設立
• ドイツのセルロース事業を買収し、「SE タイローズ社」設立（独）

2005

• 「日本酢ビ・ポバール（株） 」を完全子会社化
• CSR推進委員会（現サステナビリティ委員会）を設置
• ネオジム系希土類磁石の新高性能化技術を開発

2006

• 「三益半導体工業(株)」の株式公開買付（ＴＯＢ）完了
• 国際化学工業協会協議会のレスポンシブル・ケア世界憲章に署名

2007

• 凸版印刷と最先端フォトマスクブランクスを共同開発

2008

• シンテック プラケマイン第1工場の第一期工事完了

2009

• 高輝度LED用リフレクター材料、および波長変換フィルムを開発

2010

• 国連グローバル・コンパクトに参加／グローバル・コンパクト・ネットワーク・ジャパン（GCNJ）に参加
• シンテック プラケマイン第1工場の第二期工事完了

2011

• シンテック プラケマイン第2工場完成
• 「ｼﾝｴﾂ ﾏｸﾞﾈﾃｨｸｽ ﾏﾃﾘｱﾙｽﾞ ﾍﾞﾄﾅﾑ社」、「ｼﾝｴﾂ ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ ﾏﾃﾘｱﾙｽﾞ ﾍﾞﾄﾅﾑ社」を設立

2013

• 直江津工場に次亜塩素酸ソーダ製造設備新設
• 「アジア シリコーンズ モノマー社」を完全子会社化
• 高輝度ＬＥＤ用に高屈折率の封止材と実装基板を開発

2014

• シンテック社　米国で輸出貢献企業に贈られる「大統領　“E”賞」を受賞

2016

• シリコーン電子材料技術研究所の新研究棟完成
• 越前市（福井県）の池ノ上分工場内にフォトマスクブランクスの工場が完成
• 米国でヒドロキシエチルセルロース（HEC）新工場が操業を開始

2018

• シンテック プラケマインでの一貫工場の新設を発表

2019

• TCFD（気候関連財務情報開示タスクフォース）の提言への支持を表明
• 信越化学グループ人権方針を策定
• ５Ｇ関連製品（石英クロス、熱硬化性低誘電樹脂、放熱シート）の市場投入を開始

2020

• シンテック エチレン工場が操業開始
• 窒化ガリウム（ＧａＮ）基板および関連製品の開発を本格化
• マイクロＬＥＤディスプレイ製造用材料を上市
• 二次加硫を必要としない画期的な成形用シリコーンゴムの開発

2021

• 執行役員制度を導入
• 群馬事業所のシリコーン事業で、カーボンニュートラルに貢献する設備投資を発表
• マイクロLEDディスプレイ用一貫プロセスを提案
• 本社を東京千代⽥区丸の内の永楽ビルディングへ移転
• シンテック プラケマインでの一貫工場の増設完了

2022

• シリコーンの高機能製品群を中心に能力増強を発表
• 売上高初の2兆円台に

2023

• 経常利益初の１兆円台に
• ２０５０年カーボンニュートラルに向け温室効果ガス排出量（スコープ１、スコープ２）を実質ゼロとするための計画を策定
• 「金川千尋未来科学財団」を設立
• シリコーン製品の高機能化と環境配慮型製品の拡充に１０００億円を投資
• GaNパワーデバイスの真の社会実装に向けて、沖電気工業株式会社と共にQST™基板事業の更なる推進を行う
• シリコーン・グリーン事業推進室を設置

2024

• 透明、耐水コーティング材「Sicle™」が日本経済新聞社「日経優秀製品・サービス賞」の最優秀賞を受賞
• 「地産地消型ＰＰＡ（群馬モデル）」への参加により温室効果ガス排出量を削減
• 群馬県伊勢崎市に半導体露光材料で第四の生産拠点となる工場の建設を発表
• 新式の接着技術「ShineGrip」™で市場開拓を開始
• 「三益半導体工業(株)」を完全子会社化
• 後工程半導体パッケージ基板製造装置と新工法の開発
• GaNの300㎜化に向けQST™基板の開発
• 電子機器設計の熱問題の解決を支援するWebサイト“ThermalvisionTM”を公開

2025

• タイのグループ3社で再生可能エネルギーを導入を発表
• 医薬セルロース事業へ日本とドイツで積極投資を発表
• 北海道大学と少量多品種から大量生産まで対応可能な脂質ナノ粒子の生産装置の開発