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信越化学工业株式会社（本部：东京，社长：森俊三）为了扩大光阻剂相关事业将在台湾新建工厂。现在正在向台湾当局提出建设许可的申请，得到批准后将开始施工。工期为1年左右，投资金额约为130亿日元。

光阻剂是半导体器件制造中不可缺少的感光性树脂。用于将激光等光束照射到硅片上，烧刻集成电路的光刻工序。

1991年，信越化学为开创新的事业设立了以金川千寻会长（当时为社长）为委员长的“Z委员会”。作为该委员会研究课题之一，进行了光阻剂的研究开发。

当时，光刻工序主要使用G线、I线等高压汞灯为光源。在向新时代的细微化发展中，KrF激元激光器作为新的光源受到关注。最晚进入光阻剂行业的信越化学从一开始就开展了难度较大的适用于激元激光器的光阻剂的开发。通过充分利用长年积累起来的合成技术，成功地开发出客户需要的高灵敏度的产品，1997年开始在直江津工厂（日本新县）生产。

信越化学又进一步开发了市场正在不断扩大的ArF激元激光器所用的光阻剂以及提高印刷电路图案尺寸精度的多层抗蚀剂材料，通过为客户提供最先进的光阻剂相关产品，使光阻剂事业不断发展。

随着半导体器件产量的增加和细微化加工的发展，光阻剂相关产品的需求在亚洲和美国不断上升。信越化学将通过在作为需求地之一的台湾进行生产，紧紧地把握住光阻剂需求上升的机会。并且，与原有的直江津工厂一起，在光阻剂相关事业上，通过拥有2个生产基地实现风险的分散，使事业得到进一步强化。