Shinetsu“素材”なら世界のブランド、シンエツ。

文字サイズ
  • 大
  • 中
  • 小
言語
  • 日本語
  • ENGLISH
  • 中文
サイトマップ
TOP > 製品情報 > 新機能材料部

新機能材料部

取り扱い製品
フォトレジスト、フォトマスクブランクス
お問い合わせ先
電話:03-3246-5346 FAX:03-3246-5724

 

フォトレジスト
信越化学は、半導体回路の書き込みに使われる感光材料として、エキシマレーザー用フォトレジストを製品化。併せて、エキシマレーザー対応のフォトマスク用防塵カバー・ペリクルについても開発に成功しました。これにより信越グループは、半導体デバイス製造のリソグラフィ工程に必要な主要材料を供給しています。

レジストを塗布した後、パターンを形成したウェハー。

フォトマスクブランクス
フォトマスクブランクスは、ガラス基板上に遮光性の薄膜を形成したフォトマスクの材料で、半導体製造工程において、シリコンウエハー上に回路を描画する際にパターン原版として用いられます。

 

当社は、従来からフォトマスクブランクスの遮光膜に使われていたクロム(Cr)に代わり、よりエッチング特性に優れる最先端のモリシリバイナリー(OMOG:Opaque MoSi On Glass)を遮光膜に使用する新プロセスを開発し、最先端フォトマスクブランクスの量産技術を確立しました。最先端半導体の製造プロセス構築に不可欠な材料として、デバイスメーカーから高く評価されています。

また、ArF、KrF用のハーフトーンタイプの位相シフトフォトマスクブランクスもラインアップし、デバイスメーカーからのニーズに応えています。