当社の主な製品と研究開発の歴史をご紹介します。

1927 直江津工場でカーバイド、石灰窒素の製造開始 1939 金属ケイ素の製造開始 1953 シリコーンの工業生産開始 1957 塩化ビニル樹脂、か性ソーダ、塩素の製造開始 1959 クロロメタンの製造開始 1960 高純度シリコンの製造開始 シリコーンＲＴＶゴムの開発 1962 セルロース誘導体の製造開始 1963 左官用メトローズの開発 1965 胃溶性コーティング剤（ＴＣ−５）の開発 1966 シランカップリング剤の開発 1967 イットリウムなど高純度レア・アースの製造開始 1972 レア・アースマグネットを開発 ＨＰＭＣＰの製造開始 1973 エポキシ・モールディングコンパウンドの開発 1976 合成香料アルファイロンを企業化 1977 合成香料青葉アルコールの開発 Ｌ−ＨＰＣを企業化 1979 ＩＣマスク用合成石英基板の製造開始 1980 合成性フェロモンを開発 1981 窒化ケイ素を開発 鋳鉄用ワイヤー接種剤の開発 1982 ジクロロシランの生産を開始 1984 リチウム・タンタレート（ＬＴ）を開発 1985 超高純度窒化ホウ素（ＰＢＮ）の成形品を開発 塩ビシュリンクフィルムの開発 1986 フレキシブル・プリント回路用材料の開発 1991 超小型光アイソレータを開発 1993 光ファイバー用プリフォーム本格製造開始 1994 フォトマスク防塵用カバー、ペリクルを開発 1998 フォトレジストの企業化 1999 液状フッ素エラストマーの開発 2000 光通信用部品事業に参入 2005 ネオジム系希土類磁石の新高性能化技術を開発 2007 RoHS規制対応光アイソレータを開発 凸版印刷と最先端フォトマスクブランクスを共同開発 2008 世界最大級の永久磁石式磁気回路を開発